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Chimie

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La partie chimie de la salle blanche est constituée de 4 sorbonnes et 1 hotte à flux laminaire, équipées de plaques chauffantes, de bac à ultrasons, d’azote gazeux pur pour le séchage des échantillons et d’eau désionisée à 18MΏ/cm².

Acid fume hood
© CNRS Photothèque / Cyril Frésillon


-  2 sorbonnes solvants : une pour le nettoyage des wafers et l’autre pour le lift-off des dépôts.
Les principaux solvants utilisés sont :

  • Acétone
  • Isopropanol
  • Trichloroéthylène
  • Dichlorométhane

- 2 sorbonnes acides : pour les gravures humides des métaux et des semi-conducteurs
Les principaux acides disponibles sont :

© CNRS Photothèque / Cyril Frésillon
Nom
Formule
l’acide acétique
C2H4O2
l’acide bromhydrique
HBr
l’acide chlorhydrique
HCl
l’acide citrique
C6H8O7
l’acide fluorhydrique
HF
l’acide nitrique
HNO3
l’acide orthophosphorique
H3PO4
l’acide sulfurique
H2SO4
Dichromate de potassium
K2Cr2O7
Fluorure d’ammonium
NH4F
Mélange BOE 7-1
NH4F : HF
Solution de gravure d’Aluminium
-
Solution de gravure de Chrome
-
Solution de gravure de l’Or
Eau régale / Ki:I2




- 1 hotte à flux laminaire : pour la gravure ou le nettoyage de semiconducteurs
Les principales bases disponibles sont :

Nom
Formule
Ammoniaque
NH4OH
hydroxyde de sodium
NaOH
Hydroxyde de potassium
KOH




Voici des exemples de gravure par acide de matériaux III-V réalisée en salle :

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