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Lithographie

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La lithographie est un élément essentiel des salles blanches, elle permet de définir les motifs grâce à des résines photo- ou électro- sensibles. Nous disposons de 2 équipements d’insolation : le premier, optique, a une résolution maximale d’environ 1µm tandis que le second, électronique, permet théoriquement d’atteindre 20nm de résolution.

photolithography room


- 1 hotte pour l’enduction des wafers, avec 2 tournettes Delta 10 Suss Microtec, de 3 plaques chauffantes intégrées dans le plan de travail et une étuve de déshydratation (Température max étuve 200°C)

Resist Hood
©CNRS Phototèque - C. Frésillon

Les résines utilisées sont :

  • Pour les résines Positives : la série S1800, AZ4533, AZ9260 et PMMA 950 A6.
  • Pour les résines Négatives :Az nLof 2070, la série des SU8 (<5 à 100µm) et les MaN 2400.
  • Pour les Résines Inversibles, utilisées pour les lift-off : AZ5214E, TI35ES.



    - Aligneur de masque MJB4 simple face Süss Microtec

  • Echantillon de 5×5 mm à 3 pouces
  • Masque de 2 à 5 pouces
  • Résolution spatiale :
    Mask holder
    Photo L. Doyennette

Type de contact
Résolution
Soft contact
2 µm
Hard contact
1 µm
Vacuum contact
0,8 µm

  • 3 objectifs microscope : ×5, ×10, ×18 avec système pour une distance de travail minimale de 12mm
  • Intensité de la lampe à Mercure : environ 12mW/cm2 à 365nm
    (Possibilité d’utiliser un filtre passe-bande autour de 365nm)

    Mask Aligner MJB4
    ©CNRS Phototèque - C. Frésillon




    - MEB Zeiss avec système Raith elphy Quantum

    Le système Raith permet de contrôler de faisceau électronique du microscope afin de gérer l’exposition de résines électrosensibles tel les PMMA ou autre MaN.
    Quelques données techniques :

Tension d’Accélération
0.1 - 30kV
Ouverture
7µm à 120µm
Courant de sonde
5pA à 100nA
Format masque
GDSII
Résolution
<100nm



- Une hotte à flux laminaire pour le développement des résines photosensibles
Les développeurs à disposition sont :

 
Developpeur
Remover
AZ & Ti series
AZ400K / AZ326MIF
Remover AZ100 or PG
S1800 series
MF319 / 351 / MF-CD-26
Remover PG
SU8 series
SU8 Developer
-
PMMA
MIBK
Acétone / trichlo.
MaN 2400
AZ726MIF
Acétone
Development Hood
©CNRS Phototèque - C. Frésillon